如何去除内蒙碳化硅微粉的杂质

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     随着内蒙碳化硅微粉在各行业，各领域的广泛应用，以及各项高、精、******科学技术的迅速发展。对于内蒙碳化硅微粉的品质和纯度也提出了更高的要求。内蒙碳化硅微粉的提纯，分级加工的方法，主要是水溢流分选方式。

     由于碳化硅在冶炼和粉碎过程中不可避免的混入了各种杂质，而这些杂质在碳化硅微粉的使用过程中，对利用碳化硅微粉加工出产品的质量和制造的半导体器件的性能都有很大的影响，增加制品的不良品率，降低加工品的表面加工质量等等。因此，要把碳化硅微粉中的杂质去除。

     其实，碳化硅中主要含有的杂质有碳，三氧化二铁，三氧化二铝，氧化钙和氧化镁以及二氧化硅等等。这些物质在碳化硅微粉做不同的用途时分别产生不同的影响，其中尤其以三氧化二铁为重。而在碳化硅的生产流程中，主要采取加酸除杂质的方法。这种去除杂质的方法，成本较低，除杂率高。

     将碳化硅粉碎后，经过二次气流分级的碳化硅微粉用软化水按一定比例配制成搅拌均匀的碳化硅料浆。用渣浆泵把料浆输送至硫酸反应槽，按一定比例加入适量的浓硫酸，加酸后将料浆搅拌均匀，并测定PH值，使料浆在槽内反应10小时以上，从而去除碳化硅微粉中的杂质。

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