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内蒙碳化硅微粉化学除碳工艺有哪几种
来源:http://neimeng.ayzxnc.com/news323590.html发布时间:2020/2/19 16:53:00
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内蒙碳化硅是一种人造材料,在工业生产中碳化硅的冶炼多采用碳热还原法,以石英砂,焦炭,木屑和工业盐为基础材料,在电炉中高温冶炼而成。碳化硅材料因其具有强度高,硬度高,耐磨损,耐腐蚀,抗氧化,高热导和热稳定性好等性能,在各个工业领域中得到广泛应用。碳化化的种类有很多,如碳化硅粉,内蒙碳化硅微粉,碳化硅块,碳化硅球等。由于内蒙碳化硅微粉在生产过程中原料中不完全反应以及加工设备和外界环境的影响,使得加工成的碳化硅微粉存在很多杂质。这些杂质主要包括游离的碳,石墨,硅和二氧化硅以及铁,铝等金属单质及其氧化物,它们的存在严重影响了碳化硅的物理化学性能和使用范围。
加热氧化法。通过对碳化硅微粉进行高温煅烧,使碳化硅微粉中的游离碳及石墨与空气中的氧气反应,以二氧化碳或者一氧化碳的形式脱离碳化硅,从而实现了除碳的目的。工艺条件是煅烧温度900摄氏度,煅烧时间3小时,碳化硅内部的碳杂质得到了完全去除。在一定的温度及时间范围内,加热氧化法对碳化硅微粉中的碳杂质去除率可达98%,但由于粒径为微粉级的碳化硅表面积过大,如果加热温度过高,易造成碳化硅微粉的表面氧化,形成氧化薄膜二氧化硅可能将碳化硅微粉包裹,从而不利于碳杂质的去除。
化学氧化法,利用硝酸,硫酸和高氯酸中的一种或组成混合酸使用,或者在酸中添加作无机氧化剂的高锰酸钾和重铬酸钾,使碳化硅微粉中的碳杂质以及气体的形式挥发出去,从而实现了对石墨和游离碳的去除。利用化学氧化法虽然也能使碳化硅微粉中的游离碳氧化成气体挥发掉,但氧化工艺所添加的强氧化性酸对人体及机器都会有强烈的腐蚀性,所以不利于大规模的工业化生产。
其实,碳化硅微粉除碳的工艺除了可采用化学法,还可采用物理除碳法,然而,无论是哪种方法,只要能去除碳化硅微粉中的游离碳,拓宽碳化硅微粉的应用范围,都是可以的。我公司从事碳化硅微粉生产及销售多年,在加工上也有着丰富的经验,成熟的技术,可以根据用户的要求,提供高品质的碳化硅微粉。当然,如果是对碳化硅微粉还有疑惑,想要掌握更多相关信息,也可向我公司咨询了解。
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